Система безмасковой литографии SF-100 XTREME

SF-100 XTREME – это система микролитографии, которую можно адаптировать  под различные задачи. Благодаря самой современной оптике, механике, система является очень гибкой, позволяет выполнять большинство процессов, можно производить апгрейд установки с течением времени, в частности, уменьшать размеры элементов и создаваемой структуры или обеспечивать возможность работы с подложками больших размеров.

Установка безмасковой литографии SF-100 XTEND

Данная система представляет собой новейшую установку безмасковой литографии и сочетает в себе стандартную оптику и оптику высокого разрешения для получения структур размерами свыше 15 мкм и менее 1 мкм. В систему встроены два светотовода, что позволяет системе получать большие и маленькие структуры, не меняя при этом оптику.

Установка безмасковой литографии SF-100 XPRESS

Данная система была разработана на базе установки SF-100 XTREME, ее основное отличие – возможность оснастить установку только теми опциями, которые необходимы под определенное применение, что значительно снижает стоимость системы. Данную установку можно модернизировать до установки SF-100 XTREME.

Установка безмасковой литографии SF-100 XCEL

 XCEL представляет из себя уникальную систему оптической безмасковой литографии новейшей разработки. Установка предназначена для получения структур размерами до 15 мкм в большинстве известных фоторезистов. Областями применения установки могут быть: MEMS устройства, Радиочастотные и микроволновые устройства, ГИС, и другие научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы.

Автоматическая установка монтажа компонентов с большим усилием монтажа FC 300

Установки нанесения фоторезистов

Установка совмещения и экспонирования SA