Установка магнетронного напыления для осаждения из газовой фазы модели PlasmaLab System 400

Установка представляет собой гибкую, компактную и экономичную систему, которая может выполнять реактивное магнетронное напыление, напыление с использованием DC, пульсирующей DC и RF плазмы. Установка предназначена для применения в мелкосерийном производстве и научно-исследовательских лабораториях.

Многоцелевая установка магнетронного напыления АС 450

Данная установка предназначена для нанесения металлических покрытий на различные подложки методом магнетронного напыления.Установка обеспечивает высокую гибкость процесса и обладает интуитивным пользовательским интерфейсом.

Установка нанесения тонких слоев путем испарения EVA 450

Данная установка предназначена для нанесения металлических покрытий на различные подложки методом испарения. Установка обеспечивает высокую гибкость процесса и обладает интуитивным пользовательским интерфейсом.