Водная/плазменая очистка
Универсальная система плазменной очистки PTP-200/PTP-300
.gif)
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки, обладающую быстрым нагревом подложек и полупроводниковых пластин с параллельной плазменной очисткой и предназначена для удаления загрязнений, оксидов, для применения во «flip chip»-технологии, бесфлюсового оплавления, адгезионного связывания материалов и компонентов.
Установка плазменной очистки V55-GKM
Данная установка представляет собой универсальную систему плазменной очистки и предназначена для удаления загрязнений, оксидов перед операцией разварки выводов проволокой, во «flip chip»-технологии и др.
Установка плазменной очистки V6-G
.gif) |
Автоматическая установка очистки полупроводниковых пластин AWC-650
Установка предназначена для очистки пластин после операции резки и представляет собой высокоэффективную, универсальную и гибкую систему для удаления субмикронных частиц с поверхностей разделенных и скрайбированных подложек. AWC-650 управляется с помощью PLC контроллера с LCD дисплеем. Все параметры процесса очистки (вращение, подача воды, время цикла и др.) могут программироваться и сохраняться.
